下記情報はあくまでも当社のお客様の一例となります。品質を保証するための確実な基準ではありませんので、導入の際は、実際にご検証のうえ、測定や品質管理を行っていただくことをおすすめします。

中子(なかご)を焼く際の酸素管理

酸素濃度計の使用工程 中子(中に空洞がある鋳物を造る時に鋳型の中にはめ込む砂型)を焼く熱処理炉内
測定の目的 産業用部品をアルミ鋳造する際に使用する中子は、強度・耐熱性・崩壊性の良さが必要であり、焼く際の酸素濃度を管理している
管理点 10~20%O2
充填ガス -

半導体ウェハーのアニール処理(高温熱処理)工程での雰囲気監視

酸素濃度計の使用工程  半導体ウェハーのランプアニール処理工程における炉内の雰囲気ガス
測定の目的 ウェハー、基板の酸化防止のため、酸素除去した雰囲気ガスを監視する
管理点 5ppmO2以下
充填ガス  Ar

上記事例における使用製品

O2コントローラー MC-8G
低濃度酸素分析計 PS-800-L

O2コントローラーMC-8G-L、低濃度酸素分析計PS-800-L

可燃性ガスにも対応、用途で選べる酸素計。流通型ならMC-8G、自吸式ならPS-800-L

※実際に導入検討の際は、仕様・機種選定に関するお打ち合わせが必要となります。

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